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微流控芯片加工技术

微流控芯片加工技术

1.光刻和蚀刻（蚀刻）

光刻工艺

2.面膜准备

3.湿蚀刻

4.等离子蚀刻（等离子蚀刻）

二是微处理新技术

成型方法（铸造）

首先通过光刻和蚀刻形成阳模（所需通道部分的突起），然后浇铸液态聚合物材料。

2.软光刻

软蚀刻技术的核心是图案转移元件——柔性版zha。

该方法包括微接触印刷方法，毛细管微模塑方法，转移微模塑方法，体外试剂洁净车间报价，微复合模塑方法等。

3.微接触印刷方法（micro-contactprinTIng，μCP）

微接触印刷是指使用弹性印模结合自组装单层技术在平面或弯曲基板上印刷图形的技术。

4.有机聚合物成型（有机聚合物成型）

有机聚合物模塑方法包括微模塑inciraillaries（MIMIC），微转移模塑（μTM）和复合调制（replicamolding）。

5.热压方法（imprinTIng）

将聚甲基丙烯酸甲酯XY酸在热压下加热至135℃，并将阳模在热压条件下放置5分钟，以将微通道压在聚甲基丙烯酸甲酯甲酯片上。微流体分析芯片可以通过热封通道附着基底和有孔盖片来获得。

6.激光蚀刻方法（laserablaTIon）

可降解聚合物材料通过紫外激光曝光，并且膜上的二维几何形状是COPY。

7.LIGA技术

LIGA技术由三部分组成：光刻，电铸和塑料铸造。

三是密封技术

1.熔接（熔接）2.阳极键合（阳极键合）3。其他密封方法

化学发光法原理

化学发光免疫分析(chemiluminescence immunoassay，CLIA)，是将具有高灵敏度的化学发光测定技术与高特异性的免疫反应相结合，用于各种抗原、抗体、激素、酶、脂肪酸、维生素和药物等的检测分析技术。化学发光免疫分析包含两个部分，济南体外试剂洁净车间，即免疫反应系统和化学发光分析系统。免疫反应系统是将发光物质(在反应剂激发下生成激发态中间体)直接标记在抗原或抗体上，或酶作用于发光底物。化学发光分析系统是利用化学发光物质经催化剂的催化和氧化剂的氧化，形成一个激发态的中间体，当这种激发态中间体回到稳定的基态时，同时发射出光子，体外试剂洁净车间预算，利用发光信号测量仪器测量光量子产额，该光量子产额与样品中的待测物质的量成正比，体外试剂洁净车间装修，由此可以建立标准曲线并计算样品中待测物质的含量。

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医疗器械GMP厂房车间设计依据：

①《医疗器械生产质量管理规范》20150301，

②《医疗器械生产质量管理规范附录一：无菌医疗器械》

③《医疗器械生产质量管理规范附录二：植入性医疗器械》

④《医疗器械生产质量管理规范附录三：体外诊断试剂》，

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